FISCHIONE 1070 奈米碳氫有機物去除裝置

試片在插入前立即清潔標本和支架進入電子顯微鏡；去除現有的碳質樣本中的碎片並防止污染成像和分析。

電漿清潔技術是一種高效去除電子顯微鏡樣品污染的方法，尤其適用於電子探針試驗  EPMA和SEM , TEM高分辨率成像。M1070 NanoClean 是一款專為電子顯微鏡應用設計的高效電漿清潔設備。

移除碳氫化合物污染避免樣品的元素成分和結構發生變化提高顯微成像和分析數據的準確性

研磨介質與潤滑劑樣品嵌入和固定化合物離子銑削過程中的材料再沉積環境污染與人為處理

電漿體是一種由正離子、負離子及電子組成的電離氣體。透過施加交流（AC）、直流（DC）或高頻電場（13.56 MHz）來產生電漿體，並利用高能電子激發氣體分子，形成所需的清潔反應。

電漿體解離氧氣（O₂ 轉化為 O、O+、O-）分解後的氧氣與碳氫污染物（H、C）反應，形成 CO、CO₂ 和 H₂O，並通過真空系統移除高污染樣品在 2 分鐘內可完全清潔

可清潔樣品、樣品座、網格及直徑達 3.5 英寸的塊狀物件提高電子顯微鏡成像和分析質量無濺射效應（感應耦合法）低能量電漿（低能量 < 15 eV）無油真空系統（< 10⁻⁶ Torr）

觸控螢幕操作兩個樣品座接口，兼容 FEI/Philips、Hitachi、JEOL 和 Zeiss 顯微鏡多氣體入口（Ar、O₂、H₂）及混合能力13.56 MHz 高頻功率輸出可存儲並調取清潔參數設置

功率範圍：10% 至 100%（建議 40 W）氣體流量：20-40 sccm（預設 30 sccm，壓力約 20-30 mTorr）標準氣體組成：75% Ar / 25% O₂碳污染去除速率：約 10 nm/min

矽片電子背散射衍射（EBSD）清潔：2 分鐘清潔後表面顯著改善金/碳標準樣品：25 分鐘後碳污染明顯減少，金無損傷SiO₂/矽樣品：40 秒後污染消除，成像更清晰

M1070 NanoClean 採用高頻感應耦合與低能量電漿技術，實現無濺射、高效的樣品清潔。該設備能顯著提高電子顯微鏡成像與分析的準確度，對於需要高精度表面分析的科研與工業應用極具價值